介孔TiO2/rGO交替薄膜光催化降解土霉素

作者:李翠霞康伟超任一波王慧康史晓

关键词: 还原氧化石墨烯; 二氧化钛; 介孔; 交替薄膜; 光催化;

摘要：采用浸渍提拉结合热处理的方法,以氧化石墨烯（GO）、钛酸四丁酯（TBT）为原料,引入不同量聚乙烯吡咯烷酮（PVP）作为介孔模板剂制备TiO2/rGO交替薄膜.通过X射线衍射（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）、比表面积（BET）、紫外-可见漫反射（UV-Vis DR）对样品进行分析表征;研究了rGO层、PVP的加入对薄膜物相结构、表面形貌、光响应范围以及太阳光照射下降解土霉素效率的影响.结果表明:引入rGO层可抑制锐钛矿相向金红石相的转变,拓宽薄膜的光响应范围;模板剂PVP的加入在薄膜中形成了大量狭缝状和针状介孔,为薄膜增加了物质传输通道和反应活性位;w（PVP）=10%时的介孔TiO2/rGO交替薄膜光催化活性最高,太阳光照射50 min对土霉素的降解效率达到90.61%.

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介孔TiO2/rGO交替薄膜光催化降解土霉素

作者:李翠霞 康伟超 任一波 王慧康 史晓

关键词: 还原氧化石墨烯; 二氧化钛; 介孔; 交替薄膜; 光催化;

作者:李翠霞康伟超任一波王慧康史晓